
仪器介绍
• 冲氩型光室,无需真空控制系统,更小的体积、更低的能耗;
• DF-700 采用适应 CCD 采集的 C-T光学系统,平场采样,全谱接收;
• 创新的 DF- V型全谱接收装置,实现 140-750nm 谱线分析;
• 可分析铁、铜、铝等多种基体;
• 独立的光谱采集、处理模块,高性能的ARM 处理器,实时操作系统,独立优化的数据处理单元,可极大缩短分析时间,提高仪器的分析精度;
• 最新的第三代温度控制系统,大大降低了能耗,温度控制范围在 士0.2°℃,提高了仪器的稳定性;
• 数字化光源 DFI-S 的采用,扩大了元素的分析范围和精度;
• 定制化平场光栅,减少 CCD 使用数量,提高了分析数据精度及稳定性,仪器体积大大缩小,便于移动及安装;
• 软件功能齐全、数据显示灵活,可设置碳当量等各种伪元素显示,并具有多种可选的报告打印格式。
技术参数
| 光学系统 | 光学系统构造 | 切尔-尼特纳架法 |
| 曲率半径 | 400mm | |
IV 型全息像差校正光栅 | 刻线 2400线/mm | |
| 波长范围 | 140-750nm | |
| 像素分辨率 | @200nm :10pm | |
| 自动恒温冲氩光学室 | 30+0.2℃℃,冲氩型光室 | |
| 光源系统 | 光源类型 | 火花脉冲数字光源 |
| 控制技术 | 半导体 PWM 控制技术 | |
| 放电电流 | 10-400A | |
| 激发频率 | 100-800Hz | |
| 放电时间 | 10-10000μS | |
| 火花台 | 最小氩气用量的冲氩式激发室 | |
| 易于更换的火花台盖板 | ||
| 快速更换试样的火花台压架 | ||
| 控制和数据采集系统 | 高分辨率 CCD 检测器 | |
| 线阵CCD:Toshiba(日本东芝) | ||
| 高速 16bit 采样精度 | ||
| 分辨率:3648 像元 | ||
| 以太网高速通信 | ||
| 其他 | 分析材质 | 铁、铜、铝、镍等基体 |
| 仪器尺寸 | 940mm(长)*360mm(宽)*530mm(高) | |
| 环境要求 | 温度 10℃ -35℃,湿度 20%-80% | |
| 重量 | 净重 50Kg,毛重 70Kg | |
| 电源 | AC220V+10%/50Hz | |
| 功率 | 分析时最大功率 300VA,待机状态 100VA | |
| 气体 | 氩气,纯度>99.994%,压力>0.3MPa | |