
仪器介绍
• DF-660 采用适应 CCD 采集的 C-T光学系统,平场采样,全谱接收;
• 创新的 DF-VI型全谱接收装置,实现130-800nm谱线分析;
• 可分析铁、铜、铝、锌、镍、锡、钛、镁等多种基体;可分析氮元素;
• 独立的光谱采集、处理模块,高性能的 ARM 处理器,实时操作系统,独立优化的数据处理单元,可极大缩短分析时间,提高仪器的分析精度;
• 最新的第三代温度控制系统,大大降低了能耗,温度控制范围在士0.2°℃,提高了仪器的稳定性;
• 数字化光源 DFII-S的采用,扩大了元素的分析范围和精度;
• 定制化平场光栅,减少 CCD 使用数量,提高了分析数据精度及稳定性,仪器体积大大缩小,便于移动及安装;
• 软件功能齐全、数据显示灵活,可设置碳当量等各种伪元素显示,并具有多种可选的报告打印格式。
技术参数
| 光学系统 | 光学系统构造 | 切尔-尼特纳架法 |
| 曲率半径 | 450mm | |
IV 型全息像差校正原刻光栅 | 刻线 3600线/mm | |
| 波长范围 | 130-800nm | |
| 像素分辨率 | @200nm :7pm | |
| 自动恒温真空光学室 | 30+0.2℃,真空范围:1.2-2.5Pa | |
| 光源系统 | 光源类型 | 火花脉冲数字光源 |
| 控制技术 | 半导体 PWM 控制技术 | |
| 放电电流 | 10-500A | |
| 激发频率 | 100-1000Hz | |
| 放电时间 | 10-10000μS | |
| 火花台 | 最小氩气用量的冲氩式激发室 | |
| 易于更换的火花台盖板 | ||
| 快速更换试样的火花台压架 | ||
| 控制和数据采集系统 | 高分辨率 CCD 检测器 | |
| 线阵CCD:Toshiba(日本东芝) | ||
| 高速 16bit 采样精度 | ||
| 分辨率:3648 像元 | ||
| 以太网高速通信 | ||
| 其他 | 检测基体 | 铁、铜、铝、镍、锌、锡、钛、镁等基体 |
| 仪器尺寸 | 946mm(长)*412mm(宽)*627mm(高) | |
| 环境要求 | 温度 10℃ -35℃,湿度 20%-80% | |
| 重量 | 净重 90Kg,毛重 120Kg | |
| 电源 | AC220V+10%/50Hz | |
| 功率 | 分析时最大功率 800VA,待机状态 100VA | |
| 气体 | 氩气,纯度>99.994%,压力>0.3MPa | |